• <progress id="l5vlq"></progress>
    <button id="l5vlq"></button>

          <button id="l5vlq"></button>

          歡迎進入蘇科斯(江蘇)半導體設備科技有限公司官網!

          蘇科斯(江蘇)半導體設備科技有限公司

          全國統一服務熱線 139 6265 8938

          蝕刻銅(鈦)Etch Cu(Ti)
          蝕刻銅(鈦)Etch Cu(Ti)
          設備名稱/型號:水平式銅(鈦)蝕刻設備
          工藝簡介:光刻膠覆蓋有效線路,通過腐蝕液將sputter金屬Cu種子層蝕刻掉,留下需要的線路
          工藝流程:噴涂光刻膠—曝光—顯影—蝕刻-水洗-吹干
          主要工藝參數:酸性蝕刻液25-40℃噴淋蝕刻銅,時間1-3min/pcs,蝕刻后需充分水洗,水洗壓力:0.8-1.5kg/cm2,時間2-4min/pcs,











          應用領域
          上一條:
          沒有產品了
          下一條:
          沒有產品了

          產品特點

          友情鏈接: 槽式清洗機槽式去膠機

          Copyright 2022 蘇科斯(江蘇)半導體設備科技有限公司 All Right Reserved. 蘇ICP備2022001688號-1

          2020国产精品不卡在线观看